在半导体工艺中，电子级溴化氢被用作表面清洁剂、蚀刻剂、掺杂剂和氢原子源。

用于电子工业硅半导体器件和集成电路中扩散、掺杂、干法蚀刻等工艺。

主要用作外延、沉积气体、非晶硅碳生长、粘合光刻胶等，是半导体制造用的一种关键气体。

主要应用于半导体行业无定形碳掩膜的制备中，采用等离子体增强化学气相沉积工艺，可以形成稳定的无定形碳层膜，构建可用于光刻工艺的碳硬掩膜。

主要应用于化学气相沉积CVD、掺杂工艺改进，在某些半导体工艺环节中，乙炔也可以被用作保护气体。

主要用于外延和沉积。