可以用于半导体制造过程中的等离子体刻蚀和物理气相沉积等工艺。

半导体制造中的一种关键清洁气体。

在电子工业中用作等离子体化学蚀刻剂及氟有化合物的原料。

主要应用于大规模集成电路先进制程的刻蚀工艺，六氟丁二烯刻蚀速率更快、选择性和深宽比更高、环境更友好。