碘化亚铟在半导体领域的应用主要包括作为导电剂、掺杂剂和催化剂。

在半导体领域主要用于薄膜沉积与蚀刻工艺‌。

在半导体领域的应用主要体现在其作为半导体前驱体材料，主要用于制造二氧化锆、锆氨配合物等化合物‌‌。

在CVD/ALD工艺中用于生产含铪的前驱体材料，如四(乙基甲基胺基)铪(IV)（TEMAH）、铪醇盐等。

在半导体领域的应用主要包括掺杂和离子注入环节‌。

在半导体工业中，主要作为衬底材料和钨膜生长中间体。